Epson anunció que albergará su cuarto proyecto anual Epson Digital Couture Project el 6 de febrero de 2018, antes de la Semana de la Moda en la ciudad de Nueva York. Los diseñadores de América del Norte y América Latina aprovecharán las soluciones de impresión textil de clase mundial de Epson para crear diseños de moda basados en el tema «Cosmopolitan Couture with Impossible Colors.
Esta presentación de moda única mostrará las posibilidades de diseño posibles gracias a la tecnología de imagen digital de Epson. Karyn Coo, nacida en Temuco en 1988, ha sido la elegida por el país para explorar nuevas tecnologías en indumentaria. La chilena entró a la carrera de vestuario en 2007 y después de 3 años de estudios realiza intercambio a la ciudad de Buenos Aires en busca de nuevos conocimientos. Es ahí donde decide abandonar los estudios y crear su marca homónima.
El 2011 entra al concurso «Project Runway L.A. 2nda Temporada» donde resulta ganadora. Desde ahí su carrera ha ido en rápido ascenso. Ese mismo año regresa a su país natal, Chile y abre su primera tienda – atelier, también se presenta en pasarelas internacionales tales como Mercedes Benz Fashion Week México 2012, UNIMODA, Aguas Calientes – México, Fashion Week Panamá, y BAAM – Buenos Aires.
En su país muestra colecciones en pasarelas como Viña DModa, Santiago DModa, Viste Stgo, LatinTrends, etc. Cierra el 2012 obteniendo el reconocido premio de las 100 mujeres líderes 2012 y los 100 jóvenes líderes 2012.
El 2013 comienza con pasarela en Punta del Este – Uruguay. Celebridades como Nicole, Catalina pulido, Josefina Montané, Maria Luisa Mayol, Alejandra Fosalva y Carolina de Moras han usado sus creaciones. En el 2013 se embarcó en el proyecto de la docencia donde estuvo 2 años ejerciendo clases en la Nueva escuela de diseño (UDLA) en paralelo a sus diseños. Actualmente cuenta con tres marcas propias, Karyn Coo Haute Couture, Karyn Coo y Karyn Coo Petit.
En el evento Digital Couture Project cada diseñador o equipo de diseño contará una historia a través de su colección mediante textiles creados con la tecnología de impresión por sublimación de tinta Epson. Estas tecnologías permiten posibilidades de diseño ilimitadas, con el resultado de impresiones originales de la más alta calidad, únicas para cada diseñador, en telas que transmiten su estilo distintivo. El cuarto evento anual de Epson Digital Couture Project mostrará las capacidades de diseño a través de las colecciones presentadas de diseñadores de América del Norte y América Latina.
Estos son los otros participantes:
Brasil – Lua Luá (Michele Gevaerd)
Canadá (Toronto) – Hayley Elsaesser
Ecuador – Stephanie Ruiz
Guatemala – Eduardo Figueroa
México – Emilio Mata
Paraguay – Ilse Jara
Perú – Ana María Guiulfo
Colombia – Lina Cantillo
Estados Unidos (Los Angeles) – Candice Cuoco
Estados Unidos (Miami) – Fernando Alberto
Estados Unidos (Filadelfia) – Universidad Thomas Jefferson (Alexandra Pizzigoni y Patricia Franklin)
Estados Unidos (Nueva York) – threeASFOUR (Gabriel Asfour, Angela Donhauser y Adi Gil).
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